關於「光刻機 用途」標籤，搜尋引擎有相關的訊息討論：

光刻機_百度百科。

光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造芯片的核心裝備。

它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到硅 ...。

美中光刻機之戰- 美國專欄 - RFI。

2021年7月26日 · EUV光刻機，又稱“極紫外光（EUV）微影系統”，個人電腦、智能手機、數據中心和雲計算基礎設施等高科技應用的製造商，根本離不開它。

美國的英特爾、韓國的 ...： 。

[PDF] 2021年卡脖子系列—— 全球光刻机行业概览。

2021年5月14日 · 发生化学变化，通过曝光、显影、刻蚀等工艺过. 程，将设计在掩膜版上的图形转移到衬底上的图. 形精细加工技术。

❑ 光刻机工作原理：激光器作为光源发射 ...： 。

Nikon、Canon 日系光刻機為何被後起之秀ASML 超越？ - 科技新報。

2020年10月22日 · 當今世界光刻機三大製造商是：日本Nikon、Canon 和荷蘭ASML， ... 用途的半導體，優先考慮的都是可靠性，因此光刻機領域其實也各有用途的對應設計。

： 。

曝光機- 維基百科，自由的百科全書。

可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長激光和類似投影機原理的步進式光刻機（英語：stepper）或掃描式光刻機（ ...： 。

芯片制造中被卡脖子的光刻机，其工作原理及关键技术是什么？。

2021年9月1日 · 光刻机的整个曝光光学系统，由数十块锅底大的镜片串联组成，其光学零件精度控制在几个纳米以内，目前光刻机镜头最强大的是老牌光学仪器公司德国蔡司，ASML ...： 。

三星斥资采购EUV光刻机，拟迎头赶上台积电。

2021年3月16日 · EUV（极紫外线）光刻机是晶圆厂的核心设备之一，其作用是扫描曝光芯片晶圆，将集成电路图案刻在晶圆上。

精度越高的光刻机，能生产出尺寸更小的芯片， ...： 用途? 。

YouTube。

2017年9月20日 · Enjoy the videos and music you love, upload original content, and share it all with friends, family, and the world on YouTube.。

关于ASML | 光刻技术的领导者。

你所不知的世界上最重要的科技公司. ASML是半导体行业的创新领导者。

我们提供涵盖硬件、软件和服务的全方位光刻解决方案，帮助芯片制造商在硅晶圆上批量“刻”制图形。

： 。

礦物標本平面攝影數位化工作流程指南。

檢索:2010年1月, http://nadm.gl.ntu.edu.tw/nadm/mainpage.htm。

臺灣大學地質科學典藏數位化計畫「計畫總目標」,檢索:2009年12月, ...